表面處理設(shè)備
RotoVAC 旋轉(zhuǎn)真空等離子處理設(shè)備
產(chǎn)品特征:
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·安裝簡單，使用簡便 ·處理時間短 ·標準或定制化的處理倉 ·真空度 ·無需工藝氣體 ·控制處理過程 ·節(jié)約成本 ·真空下的等離子處理 |
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標準和定制化的真空等離子處理設(shè)備
Tantec的RotoVAC等離子處理設(shè)備用于處理小型注塑部件，無需放在支架上或使用復雜的搬運機構(gòu)。RotoTEC采用旋轉(zhuǎn)的圓桶式設(shè)計，將處理產(chǎn)品放在圓桶中，再將圓桶放入真空腔體中旋轉(zhuǎn)便可以均勻的處理到產(chǎn)品所有表面。
在等離子電極放電前，處理倉里會出現(xiàn)一個1至4mbar的真空，因此處理時間的非常短，根據(jù)產(chǎn)品的材質(zhì)和結(jié)構(gòu)，一般在20-180s之間。
RotoVAC等離子處理設(shè)備具有操作簡單、生產(chǎn)可靠性高、處理速度快等特點?？墒褂脷?/span>氣或氧氣等工藝氣體，但是大多數(shù)情況下，等離子放電產(chǎn)生的高能量就可以大大提高物體表面能量，因此無需再使用這些工藝氣體。
RotoVAC采用先進的HV-X系列的放電發(fā)生器，等離子變壓器根據(jù)電極進行設(shè)計，并為其提供高壓。圓桶的旋轉(zhuǎn)可保證每個產(chǎn)品得到處理。另可多配一個圓桶，以便輪流使用。
特點：
·安裝簡單，使用簡便 連接電源和壓縮的空氣即可。
·處理時間短 根據(jù)產(chǎn)品材質(zhì)和結(jié)構(gòu)，一般在20-180s內(nèi)即可完成。
·標準或定制化的處理倉 處理倉和圓桶的大小可根據(jù)實際應(yīng)用進行設(shè)計，一般情況下
是標準的處理倉。
·真空度 根據(jù)實際應(yīng)用，真空度一般在1-4mbar。
·無需工藝氣體 可使用氧氣和氬氣等工藝氣體，但大多數(shù)情況下無需使用
這些工藝氣體。
·控制處理過程 等離子整個過程是由HV-X系列放電發(fā)生器和PLC裝置進行控制。
觸摸面板上顯示了所有控制參數(shù)（標準——proface）
·節(jié)約成本 由于能耗低，不需特殊的工藝氣體，該套設(shè)備大大節(jié)約了成本，
是改善物體表面潤濕性和粘合性的最佳方法。
·真空下的等離子處理 可處理導電和非導電的物體表面。
